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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:M5000直讀光譜儀

  • 產(chǎn)品型號:M5000
  • 產(chǎn)品廠商:聚光
  • 產(chǎn)品價格:0
  • 折扣價格:0
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簡單介紹:
M5000直讀光譜儀適用于鐵、鋁、銅、鋅、鎳、鈦、鎂、鈷等各種基體、合金材料中微量至高含量范圍內(nèi)的元素定量分析。 廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機械加工等行業(yè)的來料檢驗、質(zhì)量控制及出廠檢驗等。◆爐前快速分析 ◆產(chǎn)品質(zhì)量鑒定 ◆材料驗收檢查
詳情介紹:
M5000直讀光譜儀
M5000直讀光譜儀適用于鐵、鋁、銅、鋅、鎳、鈦、鎂、鈷等各種基體、合金材料中微量至高含量范圍內(nèi)的元素定量分析。
廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機械加工等行業(yè)的來料檢驗、質(zhì)量控制及出廠檢驗等。
◆爐前快速分析   ◆產(chǎn)品質(zhì)量鑒定   ◆材料驗收檢查
    
產(chǎn)品詳情
 
儀器概述
M5000臺式直讀光譜儀用于快速定量分析多種金屬材料中的化學(xué)元素。儀器操作簡單,維護方便,分析精度完全達到實驗室要求,并可以在爐前環(huán)境下長期使用,穩(wěn)定可靠。儀器采用帕型-龍格多CCD光學(xué)系統(tǒng), 可分析元素的波長范圍從 140nm 到 680nm,滿足金屬行業(yè)中對常規(guī)元素的分析需求。先進的雙光室設(shè)計,可實現(xiàn)對碳、磷、硫等短波長元素,特別是氮元素的分析。全譜接收技術(shù),可實現(xiàn)根據(jù)用戶需求增減分析元素,無需更改硬件。
M5000可進行多基體分析,配有完備的工廠校準(zhǔn)曲線。用戶可根據(jù)需要選配不同基體進行分析,如:鐵、鋁、銅、鋅、鎳、鈦、鎂、鈷等?;赪indows系統(tǒng)的專業(yè)分析軟件,功能完善,操作簡便。完備的系統(tǒng)診斷和強大的數(shù)據(jù)庫管理,可完全滿足用戶需求。先進**的智能算法和光譜延時采集技術(shù),可消除各種強背景和譜線間干擾,極大地提高了分析精度。高性能DSP及
FPGA處理器可以對數(shù)據(jù)進行高速處理,大大縮短了分析時間。
先進的可編程脈沖數(shù)字光源,可根據(jù)不同的分析樣品配置*佳激發(fā)波形,有利于提高分析精度。同時,完善的激發(fā)保護系統(tǒng),保證激發(fā)過程**可靠。優(yōu)化設(shè)計的氬氣流路,有效降低了氬氣用量,節(jié)約了成本。
整機結(jié)構(gòu)設(shè)計合理,便于快速安裝和更換部件,減少了維護工作量。激發(fā)臺的特殊設(shè)計可適應(yīng)多種形狀的樣品。


儀器應(yīng)用

> M5000
適用于鐵、鋁、銅、鋅、鎳、鈦、鎂、鈷等各種基體、合金材料中微量至高含量范圍內(nèi)的元素定量分析。
       
> 廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機械加工等行業(yè)的來料檢驗、質(zhì)量控制及出廠檢驗等。

◆爐前快速分析    ◆產(chǎn)品質(zhì)量鑒定    ◆材料驗收檢查
技術(shù)規(guī)格
光學(xué)系統(tǒng)
◆帕型-龍格結(jié)構(gòu)
◆多片高分辨率CCD探測器
◆***長范圍:140nm~680nm
◆智能恒溫控制

激發(fā)光源
◆可編程脈沖數(shù)字光源
◆高能預(yù)燃技術(shù)
◆*大放電電流:400 A
◆放電頻率:100Hz~1000Hz

分析軟件
◆圖形化分析軟件,專業(yè)、簡潔
◆完備的自動系統(tǒng)診斷功能
◆完善的數(shù)據(jù)庫管理功能

分析程序
◆工廠校準(zhǔn)曲線分析程序  
◆可靈活選擇分析程序
◆可根據(jù)用戶需求擴展分析功能
 
樣品激發(fā)臺
◆充氬式
◆便于使用的樣品夾具
◆激發(fā)孔徑13 mm
 
電源和環(huán)境要求
◆AC220V±20V,50Hz
◆火花激發(fā)時*大功率400 VA
◆待機平均功率100 VA
◆工作濕度:20%~80%
◆工作溫度:10°C~30°C

尺寸
726×622×546 mm
◆重量:約80kg

儀器型號
型號
波長
范圍描述
M5000 F
140-680 nm
雙光室配置,更優(yōu)的紫外分析能力和N元素分析擴展能力,可滿足Fe,Al,Cu,Zu,Ni,Ti,
Mg,Co等各種基體分析需求
M5000 N
170-680 nm
雙光室配置,更優(yōu)的紫外分析能力,可滿足Fe,Al,Cu,Zu,Ni,Ti,Mg,Co等各種基體分析需求
M5000 S
175-520 nm
單光室配置,具備黑色金屬分析能力,可滿足Fe,Al,Cu,常規(guī)基體分析需求
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